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為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

• 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備

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"產(chǎn)品中心

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AVP 電子束蒸鍍機(jī) SYSTEM

-制備高性能、高可靠性功能薄膜的關(guān)鍵設(shè)備
-廣泛用于高熔點(diǎn)、高沸點(diǎn)材料處理，如蒸發(fā)鎢、鉬、鉭、氧化鋁等材料
-附著力強(qiáng)、結(jié)構(gòu)致密的高質(zhì)量薄膜
-實(shí)踐證明的可靠、低成本、高產(chǎn)能的薄膜沉積系統(tǒng)和工藝

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AVP IBE System

- 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運(yùn)行的薄膜刻蝕系統(tǒng)
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗(yàn)證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復(fù)性

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AVP HR PVD System

-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
-高靶材使用率（>8

-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應(yīng)濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
-高靶材使用率（>80%）

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"關(guān)于艾微普

為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

專注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備

公司由美國(guó)硅谷企業(yè)家團(tuán)隊(duì)與國(guó)內(nèi)著名上市企業(yè)天通公司(TDG)合作，在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導(dǎo)體設(shè)備、工藝、材料專家，專注打造世界先進(jìn)水平的高端微納器件、半導(dǎo)體、及新能源加工設(shè)備。

公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射（PVD）、離子束刻蝕機(jī)（IBE）、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)（RIE）、電子束蒸鍍機(jī)等系列MEMS、半導(dǎo)體、新能源器件制造專用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來(lái)，已經(jīng)獲得幾十項(xiàng)國(guó)家專利。

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